Intel Siap Geber Teknologi 32nm

Jakarta - Intel Corporation ingin terus tampil memimpin dalam persaingan teknologi chip. Kali ini Intel telah menyelesaikan tahap pengembangan proses manufaktur generasi berikutnya dengan memperkecil ukuran sirkuit chip menjadi 32 nanometer (sepermiliar meter).

Pada kuartal keempat 2009, Intel siap memproduksi teknologi generasi masa depan dengan transistor yang lebih hemat energi, lebih padat dan dengan performa yang lebih prima.

"Kehebatan proses manufaktur dan produk yang dihasilkan membuat kami semakin jauh memimpin dalam hal kinerja komputasi dan daya tahan baterai untuk laptop berbasis Intel, server dan desktop," klaim Mark Bohr, Senior Fellow Intel & Director of Process Architecture & Integration, dalam keterangan tertulis yang dikutip detikINET, Kamis (11/12/2008).

Lebih lanjut , Mark Bohr menambahkan, "Seperti yang sudah kami perlihatkan tahun ini, strategi untuk manufaktur dan pelaksanaan juga memberikan kami kemampuan untuk dapat membuat jajaran produk baru untuk MID, perangkat CE, embedded computer dan netbook."

Teknologi 32 nm ini menggunakan teknologi high-k + metal gate generasi kedua, 193 nm immersion lithography untuk membuat pola pada lapisan untuk jalur kritis dan peningkatan teknik kerapatan transistor. Fitur ini meningkatkan kinerja dan efisiensi energi dari prosesor Intel.

Detail teknis tentang teknologi proses 32 nm lebih lengkap akan diulas pada "International Electron Devices Meeting" (IEDM) minggu depan di
San Francisco. Untuk terus memimpin dalam industri ini, Intel berencana untuk memperkenalkan prosesor dengan mikroarsitektur baru dengan proses manufaktur terdepan setiap 12 bulan.

Selain itu, juga direncanakan pada acara IEDM mendatang, Intel juga akan mendeskripsikan versi low power system on chip untuk Intel 45 nm, transistor berbasis materi semikonduktor hasil rekayasa yang meningkatkan kinerja transistor 45 nm dengan menggabungkan bahan tambahan pada node 45 nm dan lebih tinggi, serta menggabungkan rangkaian modulator silicon photonic. Intel juga akan berpartisipasi dalam short course mengenai teknologi CMOS 22 nm. ( faw / ash )

http://www.detikinet.com